Canon разрабатывает оборудование для наноимпринитинга по техпроцессу 5 нм
Canon выпустил машину для наноимпринтинга под названием FPA-1200NZ2C. Она нужна для производства полупроводниковых микросхем по техпроцессу, эквивалентному 5 нм. Но в будущем техпроцесс может быть развит и до эквивалентного 2 нм.
«Технология Canon NIL позволяет создавать микросхемы с минимальной шириной линии 14 нм, что эквивалентно 5-нм узлу, необходимому для производства самых современных логических полупроводников, доступных в настоящее время. Кроме того, ожидается, что при дальнейшем совершенствовании технологии масок NIL позволит создавать схемы с минимальной шириной линии 10 нм, что соответствует 2-нм узлу», — говорят в компании.
FPA-1200NZ2C работает иначе, чем фотолитографическое оборудование. Вместо переноса рисунка схемы путем проецирования его на пластину, покрытую фоторезистом, новое решение Canon делает это, как штамп, путем нажатия маски, отпечатанной на резисте.
«Поскольку процесс передачи рисунка схемы не проходит через оптический механизм, мелкие рисунки схемы на маске могут быть точно воспроизведены на пластине. Таким образом, сложные двух- или трехмерные схемы могут быть сформированы за один отпечаток, что может снизить их стоимость», — говорит Canon.
Литография с помощью наноимпринтов от Canon — технология, над которой компания работает с 2004 года — не получила широкого распространения, поскольку тип машины, разработанный ASML, до настоящего времени оказывался совершеннее. Canon явно надеется, что с этим новым устройством ситуация изменится.
